सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टेटिक चक

सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टेटिक चकहरूसटीक कम्पोनेन्टहरू हुन् जसले इलेक्ट्रोडहरू र वेफर्सहरू बीच उत्पन्न इलेक्ट्रोस्टेटिक फिल्डलाई क्ल्याम्प र वेफरहरू ठीक गर्न प्रयोग गर्दछ। तिनीहरू सेमीकन्डक्टरहरू, फ्ल्याट प्यानल डिस्प्लेहरू, र अप्टिक्स जस्ता क्षेत्रहरूमा व्यापक रूपमा लागू हुन्छन्, र PVD उपकरणहरू, इचिङ मेसिनहरू, र आयन प्रत्यारोपणहरू जस्ता उच्च-अन्तका उपकरणहरूको मुख्य भागहरू हुन्।

परम्परागत मेकानिकल चकहरू र भ्याकुम चकहरूको तुलनामा, सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टेटिक चकहरूको अर्धचालक निर्माण क्षेत्रमा धेरै फाइदाहरू छन्। यो सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टेटिक चकले यसको सतहमा वेफरहरू समतल र समान रूपमा समात्न स्थिर बिजुली प्रयोग गर्दछ। यो एकसमान सोखन बलले सोखिएको वस्तुलाई तुलनात्मक रूपमा समतल राख्न सक्छवेफरवार्पिङ वा विरूपण जुन परम्परागत मेकानिकल चक वा कारणले हुन सक्छभ्याकुम चकहरू, र वेफरले उच्च परिशुद्धता सेमीकन्डक्टर प्रक्रियाहरूको लागि उपयुक्त प्रशोधन शुद्धता कायम राख्छ भन्ने सुनिश्चित गर्दै।

केही सिरेमिक इलेक्ट्रोस्ट्याटिक चकहरूमा एकीकृत तताउने प्रकार्यहरू छन्, जसले ब्याक-ब्लोइङ ग्यास वा आन्तरिक तताउने इलेक्ट्रोडहरू मार्फत वेफरको तापक्रमलाई सही रूपमा नियन्त्रण गर्न, विभिन्न प्रक्रियाहरूको कडा तापक्रम आवश्यकताहरू अनुकूल गर्न, र प्रशोधन स्थिरता सुधार गर्न सक्छ।

मेकानिकल चकहरू भन्दा फरक, सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टेटिक चकहरूले मेकानिकल चल्ने भागहरू घटाउँछन्, वेफरको गुणस्तरमा कण प्रदूषकहरूको प्रभावलाई कम गर्दछ, प्रभावकारी रूपमा वेफर सतहको सरसफाइको सुरक्षा गर्दछ, र उत्पादनको उत्पादनमा सुधार गर्दछ।

सिरेमिक इलेक्ट्रोस्टेटिक चकले व्यापक अनुकूलता प्रदान गर्दछ। तिनीहरूले सिलिकन, ग्यालियम आर्सेनाइड, र सिलिकन कार्बाइड सहित विभिन्न आकार र सामग्रीको वेफरहरू समायोजन गर्न सक्छन्, विभिन्न अर्धचालक निर्माण आवश्यकताहरू पूरा गर्न।

तिनीहरूले उच्च भ्याकुम वातावरणमा स्थिर रूपमा काम गर्न सक्छन् जस्तै आयन इम्प्लान्टेशन र CVD, परम्परागत भ्याकुम चकहरूको सीमिततालाई पार गर्दै जुन भ्याकुम वातावरणमा वेफरहरू अवशोषित गर्न सक्दैन, र पूर्ण रूपमा आयन इम्प्लान्टेशन, रासायनिक वाष्प निक्षेप (CVD) र अर्धचालक म्यानमा अन्य प्रक्रियाहरूको प्रक्रिया आवश्यकताहरू पूरा गर्दछ।