CVD SiC-लेपित फर्नेस ट्यूबहरू

Semicorex CVD SiC लेपितफर्नेस ट्यूबहरूठूला-व्यास प्रक्रिया ट्यूबहरू हुन् जसले अर्धचालक वेफरको उच्च-तापमान उपचारको लागि स्थिर प्रतिक्रिया कक्ष प्रदान गर्दछ। तिनीहरू अक्सिजन (रिएक्टेन्ट ग्यास), नाइट्रोजन (संरक्षणात्मक ग्यास), र हाइड्रोजन क्लोराइडको सानो मात्रा भएको वायुमण्डलमा सञ्चालन गर्नका लागि बनाइन्छ, जसको स्थिर परिचालन तापक्रम लगभग १२५० डिग्री सेल्सियस हुन्छ।

Semicorex CVD SiC-लेपित फर्नेस ट्यूबहरूको फाइदा

1. उन्नत मोल्डिङ प्रविधि र लचिलो अनुकूलन निर्माण

3D मुद्रण प्रविधि, Semicorex मार्फत गठनCVD SiC-कोटेड फर्नेस ट्युबहरूले कुनै पनि कमजोर क्षेत्रहरू बिना सिमलेस, अभिन्न सिरेमिक संरचनाको सुविधा दिन्छ। यो मोल्डिङ टेक्नोलोजीले असाधारण ग्यास-टाइट सीलको ग्यारेन्टी दिन्छ, जसले प्रभावकारी रूपमा बाह्य प्रदूषकहरूलाई रोक्छ र सेमीकन्डक्टर वेफर प्रशोधनका लागि आवश्यक तापक्रम, दबाब र वायुमण्डलीय वातावरणलाई कायम राख्छ।

थप रूपमा, थ्रीडी प्रिन्टिङ प्रविधिले जटिल आकार र सटीक आयामी नियन्त्रणको उत्पादनलाई पनि समर्थन गर्दछ। ग्राहकहरूको ठाडो वा तेर्सो भट्टीहरूसँग पूर्ण अनुकूलता सुनिश्चित गर्न विभिन्न आवश्यकताहरू अनुसार व्यास, लम्बाइ, पर्खाल मोटाई, र सहिष्णुताका लागि कस्टम-उत्पादन उपलब्ध छ।

2. सावधानीपूर्वक सामग्री चयन र सफाई नियन्त्रण

Semicorex CVD SiC-लेपित फर्नेस ट्यूबहरू सावधानीपूर्वक चयन गरिएको सेमीकन्डक्टर-ग्रेड उच्च शुद्धता सामग्रीबाट निर्मित छन्। तिनीहरूको म्याट्रिक्सको अशुद्धता सामग्री 300 PPM भन्दा कममा नियन्त्रण गरिन्छ र CVD SiC कोटिंगको अशुद्धता सामग्री 5 PPM भन्दा कममा सीमित हुन्छ। यो कडा शुद्धता नियन्त्रणले उच्च-तापमान सञ्चालन सर्तहरूमा अवक्षेपण हुने धातु अशुद्धताले गर्दा हुने वेफर प्रदूषणलाई कम गर्छ, जसले अन्तिम अर्धचालक यन्त्रहरूको उत्पादन र कार्यसम्पादनमा ठूलो सुधार गर्छ। यसबाहेक, CVD SiC कोटिंगको प्रयोगले उच्च-तापमान प्रतिरोध, रासायनिक जंग प्रतिरोध, र Semicorex CVD SiC-कोटेड फर्नेस ट्युबहरूको थर्मल स्थिरता बढाउँछ, जसले गर्दा कठोर अपरेटिङ सर्तहरूमा तिनीहरूको सेवा जीवन धेरै विस्तार हुन्छ।

धेरै फाइदाहरू घमण्ड गर्दै, Semicorex CVD SiC-कोटेड फर्नेस ट्यूबहरूले सेमीकन्डक्टर वेफर प्रशोधनको लागि स्थिर, उपयुक्त, र अल्ट्रा-क्लिन प्रतिक्रिया ठाउँ प्रदान गर्न सक्षम छन्। सेमिकोरेक्स CVD SiC-लेपित फर्नेस ट्युबहरूद्वारा सम्भव भएको भट्टी भित्रको स्थिर तापक्रम वितरण र स्थिर ग्यास वातावरणले थप सटीक डोपिङ डिफ्युजन, थर्मल अक्सिडेशन, एनिलिङ र पातलो फिल्म डिपोजिसन प्राप्त गर्न मद्दत गर्छ।