- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
उत्पादनहरू
- View as
ICP प्लाज्मा इचिङ ट्रे
Semicorex को ICP प्लाज्मा इचिङ ट्रे विशेष गरी उच्च-तापमान वेफर ह्यान्डलिंग प्रक्रियाहरू जस्तै epitaxy र MOCVD को लागि ईन्जिनियर गरिएको छ। 1600°C सम्मको स्थिर, उच्च-तापमान अक्सीकरण प्रतिरोधको साथ, हाम्रा वाहकहरूले थर्मल प्रोफाइलहरू, लामिनार ग्यास प्रवाह ढाँचाहरू पनि प्रदान गर्छन्, र प्रदूषण वा अशुद्धता फैलाउनबाट रोक्छन्।
थप पढ्नुहोस्सोधपुछ पठाउनुहोस्
ICP प्लाज्मा नक्काशी प्रणाली
ICP प्लाज्मा इचिङ प्रणालीको लागि Semicorex को SiC कोटेड क्यारियर उच्च-तापमान वेफर ह्यान्डलिंग प्रक्रियाहरू जस्तै epitaxy र MOCVD को लागि एक भरपर्दो र लागत-प्रभावी समाधान हो। हाम्रा वाहकहरूले उत्कृष्ट SiC क्रिस्टल कोटिंग प्रदान गर्दछ जसले उच्च ताप प्रतिरोध, तापीय एकरूपता र टिकाऊ रासायनिक प्रतिरोध प्रदान गर्दछ।
थप पढ्नुहोस्सोधपुछ पठाउनुहोस्
इन्डक्टिवली कपल्ड प्लाज्मा (ICP)
Inductively-Coupled Plasma (ICP) को लागि Semicorex को सिलिकन कार्बाइड लेपित ससेप्टर विशेष गरी उच्च-तापमान वेफर ह्यान्डलिंग प्रक्रियाहरू जस्तै epitaxy र MOCVD को लागि डिजाइन गरिएको हो। 1600°C सम्मको स्थिर, उच्च-तापमान ओक्सीकरण प्रतिरोधको साथ, हाम्रा वाहकहरूले थर्मल प्रोफाइलहरू, लामिनार ग्यास प्रवाहको ढाँचाहरू पनि सुनिश्चित गर्छन् र प्रदूषण वा अशुद्धता फैलाउनबाट रोक्छन्।
थप पढ्नुहोस्सोधपुछ पठाउनुहोस्
ICP Etching Wafer होल्डर
Semicorex को ICP एचिंग वेफर होल्डर उच्च-तापमान वेफर ह्यान्डलिङ प्रक्रियाहरू जस्तै epitaxy र MOCVD को लागि उत्तम समाधान हो। 1600°C सम्मको स्थिर, उच्च-तापमान ओक्सीकरण प्रतिरोधको साथ, हाम्रा वाहकहरूले थर्मल प्रोफाइलहरू, लामिनार ग्यास प्रवाहको ढाँचाहरू पनि सुनिश्चित गर्छन् र प्रदूषण वा अशुद्धता फैलाउनबाट रोक्छन्।
थप पढ्नुहोस्सोधपुछ पठाउनुहोस्
ICP Etching क्यारियर प्लेट
Semicorex को ICP Etching Carrier Plate वेफर ह्यान्डलिङ र पातलो फिल्म डिपोजिसन प्रक्रियाहरूको माग गर्नको लागि उत्तम समाधान हो। हाम्रो उत्पादनले उच्च ताप र जंग प्रतिरोध, तापीय एकरूपता, र लामिना ग्यास प्रवाह ढाँचाहरू प्रदान गर्दछ। सफा र चिल्लो सतहको साथ, हाम्रो क्यारियर पुरानो वेफरहरू ह्यान्डल गर्नको लागि उपयुक्त छ।
थप पढ्नुहोस्सोधपुछ पठाउनुहोस्
ICP नक्काशी प्रक्रियाको लागि वेफर होल्डर
ICP Etching प्रक्रियाको लागि Semicorex को वेफर होल्डर वेफर ह्यान्डलिंग र पातलो फिल्म डिपोजिसन प्रक्रियाहरूको माग गर्नको लागि उत्तम विकल्प हो। हाम्रो उत्पादनले उच्च ताप र जंग प्रतिरोध, तापीय एकरूपता, र लगातार र भरपर्दो परिणामहरूको लागि इष्टतम ल्यामिनार ग्यास प्रवाह ढाँचाहरूको गर्व गर्दछ।
थप पढ्नुहोस्सोधपुछ पठाउनुहोस्
