ठोस SiC शावर हेड

ठोस SiC शावर हेडको मुख्य विशेषताहरू

1. पूर्ववर्ती ग्यासहरूको पनि वितरण

ठोस SiC शावर हेडको प्राथमिक कार्य भनेको CVD प्रक्रियाहरूमा सब्सट्रेटमा अग्रगामी ग्यासहरू समान रूपमा वितरण गर्नु हो। सेमीकन्डक्टर वेफर्समा बनेको पातलो फिल्महरूको स्थिरता र गुणस्तर कायम राख्नको लागि यो समान वितरण आवश्यक छ।

२. स्थिर र भरपर्दो स्प्रेइङ प्रभावहरू

ठोस SiC शावर हेडको डिजाइनले स्थिर र भरपर्दो स्प्रेइङ प्रभावको ग्यारेन्टी दिन्छ। यो विश्वसनीयता प्रशोधन परिणामहरूको एकरूपता र स्थिरता सुनिश्चित गर्नको लागि महत्त्वपूर्ण छ, जुन उच्च गुणस्तरको अर्धचालक निर्माणको लागि आधारभूत हो।

CVD बल्क SiC कम्पोनेन्टका फाइदाहरू

CVD बल्क SiC को अद्वितीय गुणहरूले ठोस SiC शावर हेडको प्रभावकारितामा महत्त्वपूर्ण योगदान दिन्छ। यी गुणहरू समावेश छन्:

1. उच्च घनत्व र पहिरन प्रतिरोध

CVD बल्क SiC कम्पोनेन्टहरूमा 3.2 g/cm³ को उच्च घनत्व हुन्छ, जसले पहिरन र मेकानिकल प्रभावलाई उत्कृष्ट प्रतिरोध प्रदान गर्दछ। यो स्थायित्वले सुनिश्चित गर्दछ कि ठोस SiC शावर हेडले अर्धचालक वातावरणको मागमा निरन्तर सञ्चालनको कठोरताको सामना गर्न सक्छ।

2. सुपीरियर थर्मल चालकता

300 W/m-K को थर्मल चालकता संग, बल्क SiC कुशलतापूर्वक गर्मी व्यवस्थापन गर्दछ। यो गुण चरम थर्मल चक्रमा परेका कम्पोनेन्टहरूका लागि महत्त्वपूर्ण छ, किनकि यसले ओभर तातो हुनबाट रोक्छ र प्रक्रियाको स्थिरता कायम राख्छ।

3. असाधारण रासायनिक प्रतिरोध

क्लोरीन र फ्लोरिन-आधारित रसायनहरू जस्ता नक्काशी ग्यासहरूसँग SiC को कम प्रतिक्रियाशीलताले लामो समयसम्म घटक जीवन सुनिश्चित गर्दछ। कठोर रासायनिक वातावरणमा ठोस SiC शावर हेडको अखण्डता कायम राख्नको लागि यो प्रतिरोध महत्त्वपूर्ण छ।

4. अनुकूलन प्रतिरोधात्मकता

CVD बल्क SiC को प्रतिरोधात्मकता 10^-2 देखि 10^4 Ω-cm को दायरा भित्र मिलाउन सकिन्छ। यो अनुकूलनताले ठोस SiC शावर हेडलाई विशिष्ट नक्काशी र अर्धचालक निर्माण आवश्यकताहरू पूरा गर्न अनुमति दिन्छ।

5. थर्मल विस्तार गुणांक

4.8 x 10^-6/°C (25-1000°C) को थर्मल विस्तार गुणांक प्रस्तुत गर्दै, CVD बल्क SiC थर्मल झटका प्रतिरोध गर्दछ। यो प्रतिरोधले द्रुत ताप र शीतलन चक्रको समयमा आयामी स्थिरता सुनिश्चित गर्दछ, कम्पोनेन्ट विफलतालाई रोक्न।

6. प्लाज्मा वातावरणमा स्थायित्व

अर्धचालक प्रक्रियाहरूमा, प्लाज्मा र प्रतिक्रियाशील ग्यासहरूको जोखिम अपरिहार्य छ। CVD बल्क SiC को क्षरण र क्षरणको उच्च प्रतिरोधले प्रतिस्थापन र समग्र मर्मत लागतको आवृत्ति घटाउँछ।

सेमीकन्डक्टर निर्माणमा आवेदनहरू

१. रासायनिक वाष्प निक्षेप (CVD)

CVD प्रक्रियाहरूमा, ठोस SiC शावर हेडले समान ग्यास वितरण प्रदान गरेर महत्त्वपूर्ण भूमिका खेल्छ, जुन उच्च-गुणस्तरको पातलो फिल्महरू जम्मा गर्न आवश्यक छ। कठोर रासायनिक र थर्मल वातावरणको सामना गर्ने यसको क्षमताले यसलाई यो अनुप्रयोगमा अपरिहार्य बनाउँछ।

2. नक्काशी प्रक्रियाहरू

ठोस SiC शावर हेडको रासायनिक प्रतिरोध र थर्मल स्थिरताले यसलाई नक्काशी अनुप्रयोगहरूको लागि उपयुक्त बनाउँछ। यसको स्थायित्वले यो सुनिश्चित गर्दछ कि यसले आक्रामक रसायनहरू र प्लाज्मा अवस्थाहरूलाई सामान्य रूपमा नक्काशी प्रक्रियाहरूमा पाइन्छ।

3. थर्मल व्यवस्थापन

अर्धचालक निर्माण भित्र, प्रभावकारी थर्मल व्यवस्थापन महत्त्वपूर्ण छ। ठोस SiC शावर हेडको उच्च थर्मल चालकताले गर्मीलाई कुशलतापूर्वक नष्ट गर्न मद्दत गर्दछ, यो सुनिश्चित गर्दै कि प्रक्रियामा संलग्न घटकहरू सुरक्षित परिचालन तापक्रम भित्र रहन्छन्।

4. प्लाज्मा प्रशोधन

प्लाज्मा प्रशोधनमा, ठोस SiC शावर हेडको प्लाज्मा-प्रेरित गिरावटको प्रतिरोधले दीर्घकालीन प्रदर्शन सुनिश्चित गर्दछ। यो स्थायित्व प्रक्रिया स्थिरता कायम राख्न र उपकरण विफलताको कारण डाउनटाइम कम गर्न महत्त्वपूर्ण छ।