Teflon Cassetes

सेमीरक्स TEFOllon क्यासेट्स उच्च-प्रदर्शन तरसायनिक वातावरणमा प्रयोगका लागि ईन्जिनियर गरिएको हो जहाँ शुद्धता, रासायनिक प्रतिरोध, र थर्मल स्थायित्व आवश्यक छ। उच्च-शुद्धता बहुविधैपल्टेल्टिफलफ्लिटिनलीन (PTFE) अर्धोरानिक निर्माण, भिजेको ecching, रसायिक सफाईमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ, र अन्य अनुप्रयोगहरू (अत्यधिक आक्रामक रसायनहरूको जोखिम दिन तिनीहरूको गैर-प्रतिक्रियाशील प्रकृतिले तिनीहरूलाई सिलिकन वेफरहरू, गिलास प्यानल, र अन्य सटीक कम्पोनेन्टहरू प्रयोग नगरीकन र अन्य सटीक कम्पोनेन्टहरू प्रयोग गरेर आदर्श बनाउँदछ।

अर्धोन्ड्रोक्टर निर्माणका विभिन्न प्रक्रियाहरूमा, जस्तै लिथोग्राफी, र आयन इम्प्लेन्टेन्ट, क्यासेटले विभिन्न उपकरणहरू बीच वाफरहरूलाई ट्रान्सफरमा भूमिका खेल्छ। विभिन्न प्रक्रिया उपकरणले क्याफेजका लागि क्यासेटहरूको लागि विभिन्न इन्टरफेस आवश्यकताहरू हुन सक्छ जुन वेन क्यारियर सही रूपमा प्राप्त र राखिएको हुन सक्छ।

सामग्री र डिजाइनको परिप्रेक्ष्यबाट, पर्याप्त मेकानिकल गुणहरू, आयामी स्थिरता, र टिकाऊ, कम वर्षा, र रिसाइक्लेबलहरू सामान्यतया प्रयोग गरिन्छ। बिभिन्न वेफर आकारहरू, प्रसंस्करणको प्रक्रिया, र प्रक्रियाहरूले विभिन्न सामग्रीहरू प्रयोग गर्दछ। सामान्य सामग्रीहरू PFA, PTFE, PP, PEK, PSK, PSP, PBT, PBT, PBT, पुलिस, पुलिस, ECB.

टेफ्लन क्यासेटेट्स हाइड्रोफल एसिड, एनआईटी्रिक एसिड, गन्धक एसिड र अन्य कडा संक्रोशहरू प्रयोग गरेर उत्कृष्ट रसायनिक प्रतिरोध पोलप्रेलोमी वा स्टेनफुस स्टील जस्ता pteeefeeplies, PTFE छैन। फुलेको छैन; कठोर रासायनिक स्नानहरूमा पदार्थ भिजेको छैन। त्यसैले प्रदर्शन लामो अवधि को ग्यारेन्टी छ र त्यसैले उच्च-केटपुट उत्पादित उत्पादन लाइनहरु को लागी jungres 'विश्वसनीयता' क्यासेट्सको विश्वसनीयता। यसको धूम्रपान भनेको कम मर्मत आवश्यक आवश्यकताहरू र प्रतिस्थापन फ्रिक्वेन्सी हो, जसले दीर्घकालीन अपरेटिंग लागतहरू कम गर्दछ।

Teflon क्यासेटहरूले धेरै उच्च थर्मल स्थिरता प्रदर्शन गर्दछ। तिनीहरू सजिलैसँग -200 डिग्री सेल्सियसबाट सजिलैसँग तापमानको सामना गर्न सक्दछन्, क्रोकजेननिकका साथै उच्च-तापमान प्रक्रियाहरूको लागि। तातो सुक्खा कक्षहरूमा वा चिसो रसायन स्नानहरूमा पनि राखिएको क्यासेटेट्स तिनीहरूको संरचनात्मक शक्ति गुमाउँदैन; तिनीहरू विलाप गर्दैनन् वा क्र्याक गर्दैनन्, सुनिश्चित गर्दै कि वाफर्स प्रशोधन गर्ने क्रममा सुरक्षित रहन्छ। यस तापक्रमको लचिलोपनले नियन्त्रण र एकरूपता प्रक्रिया गर्न उल्लेखनीय योगदान पुर्याउँछ, जुन अर्धन्डुड्रक्टर र मेम्पादेशनको लागि महत्वपूर्ण छ।

टेफ्लो क्यासनेट को एक समान महत्त्वपूर्ण विशेषता यसको विचलित, गैर-स्टिक सतह हो। PTFE स्वाभाविक रूपमा कणहरू र रासायनिक अवशेषहरूको अद्यावरित गर्न अनुमति दिँदैन, त्यसैले सफारूममा प्रदूषणको जोखिम कम गर्दछ। यो एक चिकना सतह समाप्त संग जोडिएको छ कि एक स्मूझ गर्न सजिलो र सुक्खा द्रुत, यसैले सफा र छिटो चक्र अवधि परिणाम अनुमति दिन्छ। अर्धडी प्रोसेसिंगमा, कहाँ नोक्सकहरू पनि हराउन सकिन्छ जहाँ माइक्रोस्कोपिक दूषितकर्ताहरू, यस सफाई र रासायनिक जोडिएका स्तर अनिवार्य छ।

प्रत्येक क्यासेट सही रूपमा तंग आकार सहिष्णुता गर्न सही रूपमा बनाइएको छ, स्थिर वेफर प ign ्क्तिबद्धता र साझेदारी गर्दै र तरलमा राखिएको छ। तिनीहरूको सजीलो डिजाइन फारम द्रुत रसायनिक प्रवाह र जल निकासीको द्रुत रसायनिक प्रवाह र जल निकासीमा मद्दत गर्दछ, जसले वेफर सतहमा एक समानतालाई सफा गर्दछ।  क्यासेटहरू - इन्च,-इन्च,-इन्च, र--इन्च वेफरहरू विशेष सब्सट्रेट आयामहरू, स्लट गणनाहरू, र ह्यान्डल गर्ने आवश्यकताहरू फिट हुन्छन्।

स्वचालित भिजेको बेन्च र रोबोट वेफर ह्यान्डलिंग प्रणालीहरूको साथ अनुकूलताको लागि डिजाइन गरिएको, TEFOlon Coessete Primonductory उत्पादन सेटअपहरू। तिनीहरूको मजबूत निर्माण र सफारूम-ग्रेड फिनिश ASO-प्रमाणित वातावरणको कडा मागहरू पूरा गर्नुहोस्। सबै क्यासेटेटहरूले उन्नत सूक्ष्मता उत्पादनको लागि आवश्यक सरसफाइ मापदण्ड पूरा गर्न अल्ट्रा-शुद्ध पानीमा पूर्ण निरीक्षण र पूर्व-फीफायर भएका छन्। अनुरूपकरण को प्रमाणपत्र र पूर्ण भौतिक कठिनांततानीयता प्रदान गर्न सकिन्छ गुणवत्ता आश्वासन प्रोटोकोलहरू को पालना सुनिश्चित गर्न।