एनिलिङ

आयन इम्प्लान्टेशन भनेको यसको विद्युतीय गुणहरू परिवर्तन गर्न सिलिकन वेफरमा डोपन्ट आयनहरूलाई गति दिने र प्रत्यारोपण गर्ने प्रक्रिया हो। एनिलिङ एक थर्मल उपचार प्रक्रिया हो जसले इम्प्लान्टेशन प्रक्रियाबाट हुने जालीको क्षतिलाई मर्मत गर्न र डोपन्ट आयनहरूलाई इच्छित विद्युतीय गुणहरू प्राप्त गर्न सक्रिय गर्न वेफरलाई तताउँछ।

1. आयन प्रत्यारोपण को उद्देश्य

आयन प्रत्यारोपण आधुनिक अर्धचालक निर्माण मा एक महत्वपूर्ण प्रक्रिया हो। यस प्रविधिले डोपन्टहरूको प्रकार, एकाग्रता र वितरणमा सटीक नियन्त्रणको लागि अनुमति दिन्छ, जुन अर्धचालक उपकरणहरूमा P-प्रकार र N-प्रकार क्षेत्रहरू सिर्जना गर्न आवश्यक छ। यद्यपि, आयन इम्प्लान्टेशन प्रक्रियाले वेफरको सतहमा क्षतिको तह सिर्जना गर्न सक्छ र क्रिस्टल भित्र जाली संरचनालाई सम्भावित रूपमा बाधा पुर्‍याउन सक्छ, जसले उपकरणको प्रदर्शनलाई नकारात्मक रूपमा असर गर्छ।

2. एनिलिङ प्रक्रिया

यी मुद्दाहरूलाई सम्बोधन गर्न, annealing प्रदर्शन गरिन्छ। यो प्रक्रियामा वेफरलाई निश्चित तापक्रममा तताउने, निश्चित अवधिको लागि त्यो तापक्रम कायम राख्ने र त्यसपछि यसलाई चिसो पार्ने समावेश हुन्छ। तापले क्रिस्टल भित्र परमाणुहरूलाई पुन: व्यवस्थित गर्न, यसको पूर्ण जाली संरचना पुनर्स्थापित गर्न, र डोपन्ट आयनहरूलाई सक्रिय गर्न मद्दत गर्दछ, तिनीहरूलाई जालीमा तिनीहरूको उपयुक्त स्थानहरूमा जान अनुमति दिन्छ। यो अप्टिमाइजेसनले अर्धचालकको प्रवाहकीय गुणहरू बढाउँछ।

३. एनिलिङका प्रकारहरू

एनिलिङलाई धेरै प्रकारहरूमा वर्गीकृत गर्न सकिन्छ, जसमा द्रुत थर्मल एनिलिङ (आरटीए), फर्नेस एनिलिङ, र लेजर एनिलिङ समावेश छ। RTA एक ​​व्यापक रूपमा प्रयोग गरिएको विधि हो जसले वेफरको सतहलाई छिटो तातो गर्न उच्च-शक्तिको प्रकाश स्रोत प्रयोग गर्दछ; प्रशोधन समय सामान्यतया केहि सेकेन्ड देखि केहि मिनेट को दायरा। फर्नेस एनिलिङ लामो अवधिमा भट्टीमा सञ्चालन गरिन्छ, अधिक समान तताउने प्रभाव प्राप्त गर्दछ। लेजर एनिलिङले वेफरको सतहलाई द्रुत रूपमा तातो गर्न उच्च-ऊर्जा लेजरहरू प्रयोग गर्दछ, अत्यधिक उच्च ताप दरहरू र स्थानीयकृत तताउने अनुमति दिन्छ।

4. उपकरण प्रदर्शनमा एनेलिङको प्रभाव

सेमीकन्डक्टर उपकरणहरूको प्रदर्शन सुनिश्चित गर्नको लागि उचित annealing आवश्यक छ। यो प्रक्रियाले आयन इम्प्लान्टेसनबाट हुने क्षतिलाई मात्र मर्मत गर्दैन तर यो सुनिश्चित गर्दछ कि डोपन्ट आयनहरू आवश्यक विद्युतीय गुणहरू प्राप्त गर्न पर्याप्त रूपमा सक्रिय छन्। यदि annealing अनुचित रूपमा सञ्चालन गरिएको छ भने, यसले वेफरमा दोषहरूमा वृद्धि गर्न सक्छ, प्रतिकूल रूपमा उपकरणको प्रदर्शनलाई असर गर्छ र सम्भावित रूपमा यन्त्र विफलता निम्त्याउन सक्छ।

पोस्ट-आयन इम्प्लान्टेशन एनिलिङ अर्धचालक निर्माणमा एक प्रमुख चरण हो, वेफरको लागि सावधानीपूर्वक नियन्त्रित ताप उपचार प्रक्रिया समावेश गर्दछ। एनेलिङ अवस्थाहरू अनुकूलन गरेर, वेफरको जाली संरचना पुनर्स्थापित गर्न सकिन्छ, डोपन्ट आयनहरू सक्रिय गर्न सकिन्छ, र सेमीकन्डक्टर उपकरणहरूको प्रदर्शन र विश्वसनीयता उल्लेखनीय रूपमा बृद्धि गर्न सकिन्छ। सेमीकन्डक्टर प्रशोधन टेक्नोलोजी अगाडि बढ्दै जाँदा, उपकरणहरूको बढ्दो प्रदर्शन मागहरू पूरा गर्न एनेलिङ विधिहरू पनि विकसित हुँदैछन्।

Semicorex प्रस्तावहरूannealing प्रक्रिया लागि उच्च गुणस्तर समाधान। यदि तपाइँसँग कुनै सोधपुछ छ वा थप विवरणहरू चाहिन्छ भने, कृपया हामीलाई सम्पर्क गर्न नहिचकिचाउनुहोस्।

सम्पर्क फोन # +86-13567891907

इमेल: sales@semicorex.com