SiC ICP Etching प्लेट

Semicorex SiC ICP Etching प्लेटले असाधारण थर्मल चालकता, उच्च कठोरता, र उल्लेखनीय रासायनिक स्थिरता प्रदान गरेर उद्योगको मागहरू पूरा गर्दछ, यसलाई उन्नत सेमीकन्डक्टर निर्माणको लागि रुचाइएको छनोट बनाउँछ।

सिलिकन कार्बाइड यसको असाधारण थर्मल चालकता, अर्धचालक निर्माण मा एक महत्वपूर्ण विशेषता को लागि प्रसिद्ध छ। यो गुणले SiC ICP Etching Plate लाई नक्कली प्रक्रियाको क्रममा उत्पन्न भएको तापलाई कुशलतापूर्वक नष्ट गर्न अनुमति दिन्छ, इष्टतम परिचालन तापमान कायम राख्छ। प्रभावकारी रूपमा गर्मी व्यवस्थापन गरेर, SiC ICP Etching प्लेटले उच्च-शक्ति अनुप्रयोगहरूमा पनि लगातार प्रदर्शन र विश्वसनीयता सुनिश्चित गर्दै, अत्यधिक तापको जोखिमलाई कम गर्छ। यो थर्मल व्यवस्थापन नक्काशी प्रक्रियाको अखण्डता कायम राख्न र उच्च गुणस्तर परिणामहरू प्राप्त गर्न आवश्यक छ।

SiC ICP Etching Plate को अर्को उत्कृष्ट विशेषता भनेको यसको उच्च कठोरता र पहिरन प्रतिरोध हो। उपलब्ध कडा सामग्री मध्ये एकको रूपमा, सिलिकन कार्बाइडले घर्षण र मेकानिकल पहिरनमा असाधारण प्रतिरोध प्रदर्शन गर्दछ। यो विशेषता विशेष गरी प्लाज्मा नक्काशी वातावरणमा मूल्यवान छ, जहाँ नक्काशी प्लेट आक्रामक रासायनिक र भौतिक अवस्थाहरूमा उजागर हुन्छ। SiC ICP Etching प्लेटको स्थायित्वले लामो सेवा जीवन, कम डाउनटाइम, र कम मर्मत लागतमा अनुवाद गर्दछ, यसले उच्च-भोल्युम निर्माणको लागि लागत-प्रभावी समाधान बनाउँछ।

यसको थर्मल र मेकानिकल गुणहरूको अतिरिक्त, SiC ICP Etching प्लेटले उत्कृष्ट रासायनिक स्थिरता प्रदान गर्दछ। सिलिकन कार्बाइड जंग र रासायनिक आक्रमणको लागि अत्यधिक प्रतिरोधी छ, यो सुनिश्चित गर्दै कि यसले कठोर रासायनिक वातावरणमा पनि यसको संरचनात्मक अखण्डता र कार्यसम्पादन कायम राख्छ। नक्काशी प्रक्रियाको शुद्धता र शुद्धता कायम राख्नको लागि रासायनिक क्षरणको यो प्रतिरोध महत्त्वपूर्ण छ, किनकि नक्काशी प्लेटको अखण्डतामा कुनै पनि सम्झौताले निर्माण भइरहेको अर्धचालक उपकरणहरूमा त्रुटिहरू निम्त्याउन सक्छ।