उच्च पोरोसिटीको साथ अल्ट्रा-थिन ग्रेफाइट

सुपीरियर सतह कण आसंजन र उत्कृष्ट एन्टी-डस्टिङ विशेषताहरू: उच्च पोरोसिटीको साथ सेमिकोरेक्स अल्ट्रा-थिन ग्रेफाइटले असाधारण सतह कण आसंजन प्रदर्शन गर्दछ, न्यूनतम धुलो उत्पादन सुनिश्चित गर्दै र सफा काम गर्ने वातावरण कायम राख्छ, जुन सेमीकन्डक्टर निर्माण जस्ता संवेदनशील अनुप्रयोगहरूको लागि महत्त्वपूर्ण छ।

उच्च-तापमान सहिष्णुता: उच्च पोरोसिटी भएको अल्ट्रा-थिन ग्रेफाइटले 2500 डिग्री सेल्सियससम्मको चरम तापक्रमलाई सहन सक्छ, यसलाई उच्च-तापमान प्रक्रियाहरू र परम्परागत सामग्रीहरू असफल हुने वातावरणहरूको लागि उपयुक्त बनाउँछ।

65% सम्म उच्च पोरोसिटी: छिद्रपूर्ण ग्रेफाइटको उच्च पोरोसिटीले प्रभावकारी ग्यास र तरल प्रवाहको लागि अनुमति दिन्छ, विभिन्न अनुप्रयोगहरूमा राम्रो मास स्थानान्तरण र गर्मी अपव्ययलाई सक्षम पार्छ।

उत्कृष्ट मेसिनबिलिटी भएको अल्ट्रा-थिन पोरस ग्रेफाइट: उच्च पोरोसिटी भएको अल्ट्रा-थिन ग्रेफाइटलाई 1.5mm जति पातलो अल्ट्रा-थिन पानाहरूमा बनाउन सकिन्छ उच्च पोरोसिटी कायम राख्दै, डिजाइन र अनुप्रयोगमा लचिलोपन प्रदान गर्दै।

अल्ट्रा-थिन पर्खालको बेलनाकार आकारहरूको लागि मेशिनिबिलिटी: उच्च पोरोसिटी भएको अल्ट्रा-थिन ग्रेफाइटलाई ≤1mm को पर्खाल मोटाईको साथ अल्ट्रा-पातलो पर्खालको बेलनाकार आकारहरूमा मेसिन गर्न सकिन्छ, कम्पोनेन्ट डिजाइन र कार्यक्षमतामा बहुमुखी प्रतिभा प्रदान गर्दै।

उत्कृष्ट इन्सुलेट गुणहरू र ब्याच स्थिरता: उच्च पोरोसिटीको साथ अल्ट्रा-थिन ग्रेफाइटले उत्कृष्ट इन्सुलेट विशेषताहरू र लगातार ब्याच-देखि-ब्याच प्रदर्शन प्रदर्शन गर्दछ, महत्वपूर्ण अनुप्रयोगहरूमा विश्वसनीय र पुन: उत्पादन योग्य परिणामहरू सुनिश्चित गर्दै।

अल्ट्रा-प्योर पोरस ग्रेफाइट सामग्री: उच्च पोरोसिटी भएको अल्ट्रा-थिन ग्रेफाइट अल्ट्रा-प्योर फारमहरूमा उपलब्ध छ, उच्च स्तरको शुद्धता प्राप्त गर्दछ जुन सेमीकन्डक्टर निर्माण जस्ता अनुप्रयोगहरूको मागको लागि आवश्यक हुन्छ।

उच्च शक्ति: यसको छिद्रपूर्ण प्रकृतिको बावजुद, उच्च पोरोसिटी भएको अल्ट्रा-थिन ग्रेफाइटले प्रभावशाली शक्ति प्रदर्शन गर्दछ, यसलाई संरचनात्मक घटकहरू र लोड-बेयरिङ अनुप्रयोगहरूको लागि उपयुक्त बनाउँछ।

सेमीकन्डक्टर निर्माणमा आवेदनहरू:

उच्च पोरोसिटी भएको अल्ट्रा-थिन ग्रेफाइट मुख्यतया सेमीकन्डक्टर उद्योगमा विशेष गरी उपन्यास मास ट्रान्सफर प्रक्रियामा प्रयोग गरिन्छ। यस प्रक्रियाले एकल-पास मास ट्रान्सफरको लागि नयाँ थर्मल फिल्डलाई रोजगार दिन्छ, महत्त्वपूर्ण रूपमा स्थानान्तरण दक्षता बृद्धि गर्दछ र स्थिर दर कायम राख्छ, जसले गर्दा पुनःक्रिस्टलाइजेसनको प्रभावलाई कम गर्दछ (डबल-पास मास ट्रान्सफरबाट बच्न) र माइक्रो-पाइपिंग वा अन्य सम्बन्धित क्रिस्टल दोषहरूलाई प्रभावकारी रूपमा कम गर्दछ। थप रूपमा, छिद्रपूर्ण ग्रेफाइटले ग्याँस चरण घटकहरू सन्तुलनमा राख्न, ट्रेस अशुद्धताहरू अलग गर्न, स्थानीय तापमान समायोजन गर्न, र भौतिक कण इन्क्याप्सुलेशन कम गर्न मद्दत गर्दछ। क्रिस्टल उपयोगिताका लागि आवश्यकताहरू पूरा गरेर, छिद्रपूर्ण ग्रेफाइटले क्रिस्टल मोटाईमा पर्याप्त वृद्धिलाई सक्षम बनाउँछ, यसले मोटो क्रिस्टलहरू बढ्ने चुनौतीलाई सम्बोधन गर्न प्रमुख प्रविधि बनाउँछ।