ICP प्लाज्मा इचिङ प्लेट

सेमिकोरेक्सको आईसीपी प्लाज्मा इचिङ प्लेटले वेफर ह्यान्डलिंग र पातलो फिल्म डिपोजिसन प्रक्रियाहरूको लागि उच्च ताप र जंग प्रतिरोध प्रदान गर्दछ। हाम्रो उत्पादन उच्च तापमान र कठोर रासायनिक सफाई, स्थायित्व र दीर्घायु सुनिश्चित गर्न को लागी ईन्जिनियर गरिएको छ। सफा र चिल्लो सतहको साथ, हाम्रो क्यारियर पुरानो वेफरहरू ह्यान्डल गर्नको लागि उपयुक्त छ।

सोधपुछ पठाउनुहोस्

उत्पादन विवरण

जब यो पातलो फिल्म डिपोजिसन र वेफर ह्यान्डलिङको कुरा आउँछ, Semicorex को ICP प्लाज्मा इचिङ प्लेटमा विश्वास गर्नुहोस्। हाम्रो उत्पादनले उच्च ताप र जंग प्रतिरोध, तापीय एकरूपता, र इष्टतम लामिनार ग्यास प्रवाह ढाँचाहरू प्रदान गर्दछ। सफा र चिल्लो सतहको साथ, हाम्रो क्यारियर पुरानो वेफरहरू ह्यान्डल गर्नको लागि उपयुक्त छ।

हाम्रो आईसीपी प्लाज्मा इचिङ प्लेटलाई थर्मल प्रोफाइलको समानता सुनिश्चित गर्दै उत्कृष्ट ल्यामिनार ग्यास प्रवाह ढाँचा प्राप्त गर्न डिजाइन गरिएको हो। यसले वेफर चिपमा उच्च-गुणस्तरको एपिटेक्सियल वृद्धि सुनिश्चित गर्दै कुनै पनि प्रदूषण वा अशुद्धता फैलाउनबाट रोक्न मद्दत गर्दछ।

हाम्रो ICP प्लाज्मा इचिङ प्लेटको बारेमा थप जान्नको लागि आज हामीलाई सम्पर्क गर्नुहोस्।

ICP प्लाज्मा इचिङ प्लेटको प्यारामिटरहरू

CVD-SIC कोटिंग को मुख्य निर्दिष्टीकरण
SiC-CVD गुणहरू
क्रिस्टल संरचना	FCC β चरण
घनत्व	g/cm ³	3.21
कठोरता	Vickers कठोरता	2500
अनाज आकार	μm	२~१०
रासायनिक शुद्धता	%	99.99995
गर्मी क्षमता	J kg-1 K-1	640
उदात्तीकरण तापमान	℃	2700
फेलेक्सरल शक्ति	MPa (RT 4-बिन्दु)	415
युवाको मोडुलस	Gpa (4pt बेंड, 1300℃)	430
थर्मल विस्तार (C.T.E)	10-6K-1	4.5
थर्मल चालकता	(W/mK)	300