PSS प्रक्रियाको लागि ICP प्लाज्मा इचिङ प्रणाली

उच्च गुणस्तरको एपिटेक्सी र MOCVD प्रक्रियाहरूको लागि PSS प्रक्रियाको लागि Semicorex को ICP प्लाज्मा इचिङ प्रणाली छनोट गर्नुहोस्। हाम्रो उत्पादन विशेष गरी यी प्रक्रियाहरूको लागि इन्जिनियर गरिएको छ, उच्च गर्मी र जंग प्रतिरोध प्रदान गर्दै। सफा र चिल्लो सतहको साथ, हाम्रो क्यारियर पुरानो वेफरहरू ह्यान्डल गर्नको लागि उपयुक्त छ।

सोधपुछ पठाउनुहोस्

उत्पादन विवरण

PSS प्रक्रियाको लागि Semicorex को ICP प्लाज्मा इचिङ प्रणालीले वेफर ह्यान्डलिंग र पातलो फिल्म डिपोजिसन प्रक्रियाहरूको लागि उत्कृष्ट ताप र जंग प्रतिरोध प्रदान गर्दछ। हाम्रो राम्रो SiC क्रिस्टल कोटिंगले सफा र चिल्लो सतह प्रदान गर्दछ, पुरानो वेफरहरूको इष्टतम ह्यान्डलिंग सुनिश्चित गर्दै।

Semicorex मा, हामी हाम्रा ग्राहकहरूलाई उच्च-गुणवत्ता, लागत-प्रभावी उत्पादनहरू उपलब्ध गराउनमा केन्द्रित छौं। PSS प्रक्रियाको लागि हाम्रो ICP प्लाज्मा नक्काशी प्रणालीको मूल्य लाभ छ र धेरै युरोपेली र अमेरिकी बजारहरूमा निर्यात गरिन्छ। हामी तपाईंको दीर्घकालीन साझेदार बन्ने लक्ष्य राख्छौं, निरन्तर गुणस्तर उत्पादनहरू र असाधारण ग्राहक सेवा प्रदान गर्दै।

PSS प्रक्रियाको लागि हाम्रो ICP प्लाज्मा इचिङ प्रणाली बारे थप जान्नको लागि आज हामीलाई सम्पर्क गर्नुहोस्।

PSS प्रक्रियाको लागि ICP प्लाज्मा इचिङ प्रणालीको प्यारामिटरहरू

CVD-SIC कोटिंग को मुख्य निर्दिष्टीकरण
SiC-CVD गुणहरू
क्रिस्टल संरचना	FCC β चरण
घनत्व	g/cm ³	3.21
कठोरता	Vickers कठोरता	2500
अनाज आकार	μm	२~१०
रासायनिक शुद्धता	%	99.99995
गर्मी क्षमता	J kg-1 K-1	640
उदात्तीकरण तापमान	℃	2700
फेलेक्सरल शक्ति	MPa (RT 4-बिन्दु)	415
युवाको मोडुलस	Gpa (4pt बेन्ड, 1300℃)	430
थर्मल विस्तार (C.T.E)	10-6K-1	4.5
थर्मल चालकता	(W/mK)	300