सिलिकन कार्बाइड ICP नक्काशी क्यारियर

नक्काशी प्रक्रियाहरूको लागि भरपर्दो वेफर क्यारियर खोज्दै हुनुहुन्छ? Semicorex को Silicon Carbide ICP Etching Carrier भन्दा अगाडि नहेर्नुहोस्। हाम्रो उत्पादन उच्च तापमान र कठोर रासायनिक सफाई, स्थायित्व र दीर्घायु सुनिश्चित गर्न को लागी ईन्जिनियर गरिएको छ। सफा र चिल्लो सतहको साथ, हाम्रो क्यारियर पुरानो वेफरहरू ह्यान्डल गर्नको लागि उपयुक्त छ।

सोधपुछ पठाउनुहोस्

उत्पादन विवरण

सेमिकोरेक्सको सिलिकन कार्बाइड आईसीपी इचिङ क्यारियरसँग इष्टतम ल्यामिनार ग्यास प्रवाह ढाँचा र थर्मल प्रोफाइलको समानता सुनिश्चित गर्नुहोस्। हाम्रो उत्पादन पातलो फिल्म डिपोजिसन र वेफर ह्यान्डलिंग प्रक्रियाहरूको लागि उत्तम सम्भावित परिणामहरू प्राप्त गर्न डिजाइन गरिएको हो। उच्च ताप र जंग प्रतिरोधको साथ, हाम्रो वाहक अनुप्रयोगहरू माग गर्नको लागि उत्तम विकल्प हो।

Semicorex मा, हामी हाम्रा ग्राहकहरूलाई उच्च-गुणवत्ता, लागत-प्रभावी उत्पादनहरू उपलब्ध गराउनमा केन्द्रित छौं। हाम्रो सिलिकन कार्बाइड ICP Etching क्यारियरको मूल्य लाभ छ र धेरै युरोपेली र अमेरिकी बजारहरूमा निर्यात गरिन्छ। हामी तपाईंको दीर्घकालीन साझेदार बन्ने लक्ष्य राख्छौं, निरन्तर गुणस्तर उत्पादनहरू र असाधारण ग्राहक सेवा प्रदान गर्दै।

हाम्रो सिलिकन कार्बाइड ICP Etching क्यारियर बारे थप जान्नको लागि आज हामीलाई सम्पर्क गर्नुहोस्।

सिलिकन कार्बाइड ICP Etching क्यारियर को प्यारामिटरहरू

CVD-SIC कोटिंग को मुख्य निर्दिष्टीकरण
SiC-CVD गुणहरू
क्रिस्टल संरचना	FCC β चरण
घनत्व	g/cm ³	3.21
कठोरता	Vickers कठोरता	2500
अनाज आकार	μm	२~१०
रासायनिक शुद्धता	%	99.99995
गर्मी क्षमता	J kg-1 K-1	640
उदात्तीकरण तापमान	℃	2700
फेलेक्सरल शक्ति	MPa (RT 4-बिन्दु)	415
युवाको मोडुलस	Gpa (4pt बेंड, 1300℃)	430
थर्मल विस्तार (C.T.E)	10-6K-1	4.5
थर्मल चालकता	(W/mK)	300