PSS Etching को लागी नक्काशी क्यारियर होल्डर

PSS Etching को लागि Semicorex को Etching वाहक होल्डर सबैभन्दा बढी माग गरिएको epitaxy उपकरण अनुप्रयोगहरूको लागि ईन्जिनियर गरिएको छ। हाम्रो अल्ट्रा-शुद्ध ग्रेफाइट वाहकले कठोर वातावरण, उच्च तापक्रम, र कठोर रासायनिक सफाईको सामना गर्न सक्छ। SiC लेपित क्यारियरमा उत्कृष्ट ताप वितरण गुण, उच्च थर्मल चालकता, र लागत-प्रभावी छ। हाम्रा उत्पादनहरू धेरै युरोपेली र अमेरिकी बजारहरूमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ, र हामी चीनमा तपाईंको दीर्घकालीन साझेदार बन्न तत्पर छौं।

सोधपुछ पठाउनुहोस्

उत्पादन विवरण

Semicorex मा, हामीले PSS Etching को लागि Etching वाहक होल्डर डिजाइन गरेका छौं विशेष गरी epitaxial वृद्धि र वेफर ह्यान्डलिङ प्रक्रियाहरूको लागि आवश्यक कठोर वातावरणको लागि। हाम्रो अल्ट्रा-प्योर ग्रेफाइट क्यारियर पातलो-फिल्म डिपोजिसन चरणहरू जस्तै MOCVD, एपिटाक्सी ससेप्टरहरू, प्यानकेक वा स्याटेलाइट प्लेटफर्महरू, र नक्काशी जस्ता वेफर ह्यान्डलिंग प्रशोधनका लागि उपयुक्त छ। SiC लेपित क्यारियरमा उच्च ताप र जंग प्रतिरोध, उत्कृष्ट ताप वितरण गुणहरू, र उच्च थर्मल चालकता छ। हाम्रा उत्पादनहरू लागत-प्रभावी छन् र राम्रो मूल्य लाभ प्रस्ताव गर्छन्।

PSS Etching को लागी हाम्रो Etching क्यारियर होल्डर बारे थप जान्नको लागि आज हामीलाई सम्पर्क गर्नुहोस्।

PSS Etching को लागि Etching वाहक होल्डर को प्यारामिटरहरू

CVD-SIC कोटिंग को मुख्य निर्दिष्टीकरण
SiC-CVD गुणहरू
क्रिस्टल संरचना	FCC β चरण
घनत्व	g/cm ³	3.21
कठोरता	Vickers कठोरता	2500
अनाज आकार	μm	२~१०
रासायनिक शुद्धता	%	99.99995
गर्मी क्षमता	J kg-1 K-1	640
उदात्तीकरण तापमान	℃	2700
फेलेक्सरल शक्ति	MPa (RT 4-बिन्दु)	415
युवाको मोडुलस	Gpa (4pt बेंड, 1300℃)	430
थर्मल विस्तार (C.T.E)	10-6K-1	4.5
थर्मल चालकता	(W/mK)	300