SiC लेपित PSS नक्काशी क्यारियर

एपिटाक्सी वा MOCVD जस्ता पातलो फिल्म डिपोजिसन चरणहरूका लागि मात्र होइन, वा एचिङ जस्ता वेफर ह्यान्डलिंग प्रशोधनका लागि, सेमिकोरेक्सले वेफरहरूलाई समर्थन गर्न प्रयोग गरिने अल्ट्रा-शुद्ध SiC कोटेड PSS इचिङ क्यारियर आपूर्ति गर्दछ। प्लाज्मा इच वा ड्राई इचमा, यो उपकरण, एपिटाक्सी ससेप्टरहरू, प्यानकेक वा MOCVD को लागि उपग्रह प्लेटफर्महरू, पहिले डिपोजिसन वातावरणको अधीनमा हुन्छन्, त्यसैले यसमा उच्च ताप र जंग प्रतिरोध हुन्छ। SiC लेपित PSS Etching क्यारियरमा उच्च थर्मल चालकता, र उत्कृष्ट ताप वितरण गुणहरू पनि छन्।

SiC कोटेड PSS (प्याटर्न गरिएको नीलमणि सब्सट्रेट) नक्काशी क्यारियरहरू LED (लाइट इमिटिङ डायोड) उपकरणहरूको निर्माणमा प्रयोग गरिन्छ। PSS इच क्यारियरले ग्यालियम नाइट्राइड (GaN) को पातलो फिल्मको विकासको लागि सब्सट्रेटको रूपमा कार्य गर्दछ जसले LED संरचना बनाउँछ। PSS ईच वाहक त्यसपछि एक भिजेको नक्काशी प्रक्रिया प्रयोग गरेर LED संरचनाबाट हटाइन्छ, LED को प्रकाश निकासी दक्षता बृद्धि गर्ने ढाँचाको सतह पछाडि छोडेर।

SiC लेपित PSS इचिङ क्यारियरको प्यारामिटरहरू

उच्च शुद्धता SiC लेपित PSS नक्काशी क्यारियर को विशेषताहरु

- दुबै ग्रेफाइट सब्सट्रेट र सिलिकन कार्बाइड तहमा राम्रो घनत्व छ र उच्च तापक्रम र संक्षारक कार्य वातावरणमा राम्रो सुरक्षात्मक भूमिका खेल्न सक्छ।

- सिलिकन कार्बाइड लेपित ससेप्टर एकल क्रिस्टल वृद्धिको लागि प्रयोग गरिएको धेरै उच्च सतह समतलता छ।

- ग्रेफाइट सब्सट्रेट र सिलिकन कार्बाइड तह बीचको थर्मल विस्तार गुणांकमा भिन्नता घटाउनुहोस्, क्र्याकिंग र डेलामिनेशन रोक्नको लागि बन्डिङ बललाई प्रभावकारी रूपमा सुधार गर्नुहोस्।

- दुबै ग्रेफाइट सब्सट्रेट र सिलिकन कार्बाइड तहमा उच्च थर्मल चालकता, र उत्कृष्ट ताप वितरण गुणहरू छन्।

- उच्च पिघलने बिन्दु, उच्च तापमान ओक्सीकरण प्रतिरोध, जंग प्रतिरोध।