वेफर स्थानान्तरणको लागि PSS ह्यान्डलिंग क्यारियर

Semicorex को PSS ह्यान्डलिङ क्यारियर फर वेफर ट्रान्सफर सबैभन्दा बढी माग गरिएको एपिटाक्सी उपकरण अनुप्रयोगहरूको लागि ईन्जिनियर गरिएको छ। हाम्रो अल्ट्रा-शुद्ध ग्रेफाइट वाहकले कठोर वातावरण, उच्च तापक्रम, र कठोर रासायनिक सफाईको सामना गर्न सक्छ। SiC लेपित क्यारियरमा उत्कृष्ट ताप वितरण गुण, उच्च थर्मल चालकता, र लागत-प्रभावी छ। हाम्रा उत्पादनहरू धेरै युरोपेली र अमेरिकी बजारहरूमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ, र हामी चीनमा तपाईंको दीर्घकालीन साझेदार बन्न तत्पर छौं।

सोधपुछ पठाउनुहोस्

उत्पादन विवरण

सेमिकोरेक्सबाट वेफर ट्रान्सफरको लागि PSS ह्यान्डलिंग क्यारियर एपिटेक्सियल वृद्धि र वेफर ह्यान्डलिंग प्रक्रियाहरूको लागि उच्च-तापमान र कठोर रासायनिक सफाई आवश्यकताहरू पूरा गर्न डिजाइन गरिएको हो। हाम्रो अल्ट्रा-प्योर ग्रेफाइट क्यारियर पातलो-फिल्म डिपोजिसन चरणहरू जस्तै MOCVD, एपिटाक्सी ससेप्टरहरू, प्यानकेक वा स्याटेलाइट प्लेटफर्महरू, र नक्काशी जस्ता वेफर ह्यान्डलिंग प्रशोधनका लागि उपयुक्त छ। SiC लेपित क्यारियरमा उत्कृष्ट ताप वितरण गुण, उच्च थर्मल चालकता, र लागत-प्रभावी छ।

वेफर ट्रान्सफरको लागि हाम्रो PSS ह्यान्डलिंग क्यारियरको बारेमा थप जान्नको लागि आज हामीलाई सम्पर्क गर्नुहोस्।

वेफर स्थानान्तरणको लागि PSS ह्यान्डलिंग क्यारियरको प्यारामिटरहरू

CVD-SIC कोटिंग को मुख्य निर्दिष्टीकरण
SiC-CVD गुणहरू
क्रिस्टल संरचना	FCC β चरण
घनत्व	g/cm ³	3.21
कठोरता	Vickers कठोरता	2500
अनाज आकार	μm	२~१०
रासायनिक शुद्धता	%	99.99995
गर्मी क्षमता	J kg-1 K-1	640
उदात्तीकरण तापमान	℃	2700
फेलेक्सरल शक्ति	MPa (RT 4-बिन्दु)	415
युवाको मोडुलस	Gpa (4pt बेंड, 1300℃)	430
थर्मल विस्तार (C.T.E)	10-6K-1	4.5
थर्मल चालकता	(W/mK)	300