वेफर प्रशोधनका लागि PSS Etching क्यारियर ट्रे

Semicorex को PSS Etching Carrier Tray Wafer Processing को लागि विशेष गरी Epitaxy उपकरण अनुप्रयोगहरूको लागि डिजाइन गरिएको हो। हाम्रो अल्ट्रा-प्योर ग्रेफाइट क्यारियर पातलो-फिल्म डिपोजिसन चरणहरू जस्तै MOCVD, एपिटाक्सी ससेप्टरहरू, प्यानकेक वा स्याटेलाइट प्लेटफर्महरू, र नक्काशी जस्ता वेफर ह्यान्डलिंग प्रशोधनका लागि उपयुक्त छ। वेफर प्रशोधनका लागि PSS Etching क्यारियर ट्रेमा उच्च ताप र जंग प्रतिरोध, उत्कृष्ट ताप वितरण गुणहरू, र उच्च थर्मल चालकता छ। हाम्रा उत्पादनहरू लागत-प्रभावी छन् र राम्रो मूल्य लाभ छ। हामी धेरै युरोपेली र अमेरिकी बजारहरू पूरा गर्छौं र चीनमा तपाईंको दीर्घकालीन साझेदार बन्न तत्पर छौं।

सोधपुछ पठाउनुहोस्

उत्पादन विवरण

सेमिकोरेक्सबाट वेफर प्रशोधनका लागि PSS इचिङ क्यारियर ट्रे एपिटेक्सियल वृद्धि र वेफर ह्यान्डलिंग प्रक्रियाहरूको लागि आवश्यक कठोर वातावरणको लागि इन्जिनियर गरिएको छ। हाम्रो अल्ट्रा-प्योर ग्रेफाइट वाहक MOCVD र epitaxy susceptors, pancake वा उपग्रह प्लेटफर्महरू जस्ता पातलो-फिल्म डिपोजिसन चरणहरूमा वेफरहरूलाई समर्थन गर्न डिजाइन गरिएको हो। SiC लेपित क्यारियरमा उच्च ताप र जंग प्रतिरोध, उत्कृष्ट ताप वितरण गुणहरू, र उच्च थर्मल चालकता छ। हाम्रा उत्पादनहरू लागत-प्रभावी छन् र राम्रो मूल्य लाभ प्रस्ताव गर्छन्।

वेफर प्रशोधनका लागि PSS इचिङ क्यारियर ट्रेको प्यारामिटरहरू

CVD-SIC कोटिंग को मुख्य निर्दिष्टीकरण
SiC-CVD गुणहरू
क्रिस्टल संरचना	FCC Î² चरण
घनत्व	g/cm ³	3.21
कठोरता	Vickers कठोरता	2500
अनाज आकार	¼m	२~१०
रासायनिक शुद्धता	%	99.99995
गर्मी क्षमता	J·kg-1 · K-1	640
उदात्तीकरण तापमान	℃	2700
फेलेक्सरल शक्ति	MPa (RT 4-बिन्दु)	415
युवाको मोडुलस	Gpa (4pt bend, 1300â)	430
थर्मल विस्तार (C.T.E)	10-6K-1	4.5
थर्मल चालकता	(W/mK)	300