एकल क्रिस्टल सिलिकन शावरहेड

Semicorex एकल क्रिस्टल सिलिकनस्नान हेडअसाधारण जंग प्रतिरोध, कम विस्तार गुणांक, र उत्कृष्ट ताप चालकता देखाउँछ। उच्च तापक्रम, उच्च संक्षारकता, र अर्धचालक निर्माणमा उच्च भ्याकुमको कठोर अवस्थाहरूमा दृढतापूर्वक अनुकूलन गर्दै, यसले नक्काशी र डिपोजिसन ग्यासहरू जस्ता ग्यासहरू प्रशोधन गर्न असाधारण सहिष्णुता प्रदर्शन गर्दछ। त्यसकारण, एकल क्रिस्टल सिलिकन शावरहेड अर्धचालक सफाई प्रक्रियाहरू, अक्सीकरण प्रक्रियाहरू, निक्षेप प्रक्रियाहरू र नक्काशी प्रक्रियाहरूमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ।

Semicorex ले एकल क्रिस्टल सिलिकन शावरहेडको सतहमा अत्यन्त उच्च समतलता र चिल्लोपन दुवै रहेको सुनिश्चित गर्न उन्नत सतह उपचार प्रविधिहरू प्रयोग गर्दछ। यसैबीच, च्यानल संरचना र ग्यास मार्गको मानकीकृत डिजाइनमा भर पर्दै, एकल क्रिस्टल सिलिकन शावरहेडको सतह समान व्यास (न्यूनतम व्यास ०.२ मिलिमिटर पुग्न सक्छ) को धेरै छिद्रहरूसँग समान रूपमा वितरण गरिएको छ। एकल क्रिस्टल सिलिकन शावरहेडको छिद्र व्यास सहिष्णुता माइक्रोमिटर स्तरमा ठीकसँग नियन्त्रण गरिन्छ, र छिद्रको भित्री पर्खाल चिकनी र burrs रहित हुनुपर्छ, संरचनात्मक र प्रक्रिया पक्षहरूबाट प्रक्रिया ग्यासको वितरण शुद्धता र एकरूपता सुनिश्चित गर्दै।

Semicorex ले विभिन्न ग्राहक आवश्यकताहरू पूरा गर्न विशेषज्ञ अनुकूलन सेवाहरू प्रदान गर्दछ। यसका ग्राहकहरूको विभिन्न आवश्यकताहरू अनुसार, यसले तिनीहरूको प्रतिक्रिया कक्षहरूको आयाम र फारम फिट गर्न उपस्थिति समाधानहरू अनुकूलित गर्न सक्छ। अनुकूलित डिजाइनले प्रतिक्रिया कक्षमा ग्यास समान रूपमा फैलिएको छ भनी ग्यारेन्टी गरेर प्रतिक्रिया प्रक्रियामा प्रक्रिया ग्याससँग पूर्ण र लगातार सम्पर्क गर्न वेफरहरूलाई सक्षम बनाउँछ। यसले अन्ततः उत्पादन दक्षता र उत्पादनको गुणस्तर बढाउँछ।